نخستین کنفرانس بین المللی و دهمین کنگره ملی علوم باغبانی ایران

عنوان فارسی اثر محلول‌پاشی نانو ذرات دی‌اکسید سیلیکون (SiO۲) بر رشد گیاه دارویی پروانش (Catharanthus roseus. L.) در شرایط تنش شوری
چکیده فارسی مقاله شوری یکی از عوامل مهم کاهش دهنده رشد گیاهان در بسیاری از مناطق جهان است و مطالعه عوامل تأثیرگذار در افزایش مقاومت به این تنش محیطی بسیار مهم می‌باشد. گیاه دارویی پروانش به علت وجود آلکالوئیدهای ارزشمند در اندام‌های رویشی و ریشه به‌عنوان یک گیاه دارویی بسیار مهم معرفی شده است. در این تحقیق تأثیر نانو ذرات سیلیکون بر روی رشد گیاه پروانش در شرایط تنش شوری مورد بررسی قرار گرفت . و برای این منظور آزمایش فاکتوریلی در قالب طرح پایه کاملاً تصـادفی در گلخانه دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی مغان اجرا گردید. نتایج نشان داد که تیمار شوری به‌طور معنی‌داری باعث کاهش صفات ارتفاع بوته، تعداد برگ سبز، تعداد گل و غلاف، وزن برگ سبز، کلروفیل و سطح برگ گیاهان گردیده است. نتایج نشان داد که تیمار شـوری در گیاه پروانش می‌تواند تا 31 درصد باعث کـاهش میزان کلروفیل کل نسبت به گیاهان شـاهد شـود. تیمار دی‌اکسید سیلیکون نیز به غیر از صفات وزن خشک برگ سبز و سطح برگ سبز در بقیه صفات باعث بهبود صفات گردیده است. در هیچ‌یک از صفات مورد مطالعه اثر متقابلی بین سطوح مختلف شوری و سطوح مختلف نانو ذرات دی‌اکسید سیلیکون مشاهده نشد.
کلیدواژه‌های فارسی مقاله پروانش، نانو ذرات دی‌اکسید سیلیکون، تنش شوری

عنوان انگلیسی
چکیده انگلیسی مقاله
کلیدواژه‌های انگلیسی مقاله

نویسندگان مقاله

نشانی اینترنتی http://www.irhc2017.org
فایل مقاله فایلی برای مقاله ذخیره نشده است
کد مقاله (doi)
زبان مقاله منتشر شده fa
موضوعات مقاله منتشر شده
نوع مقاله منتشر شده
برگشت به: صفحه اول پایگاه   |   دوره مرتبط   |   کنفرانس مرتبط   |   فهرست کنفرانس ها